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第348章 光刻机万亿你想干嘛（第1页）

刘林走到舞台边沿，看了看台下，便道：“大家都知道光刻机是芯片制造的核心设备最重要的设备，没有之一！”

“如果按照用途可以分为好几种！”刘林说完停了停，等台一都把目光聚焦在息身上之后，便继续道。

“有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。”

“虽然我们国内也制造光刻机，但是用是生产芯片的光刻机是我们华国在半导体设备制造上最大的短板，我们国内晶圆厂所需的高端光刻机完全都是依赖进口。”刘林一脸心痛的道。

不平的脸上还带着莫名的表情。

“在芯片制造中，最重要的设备就是光刻机，而光刻机的源头就是H兰国的ASML！”

“现阶段，大家应该知道ASML已经成为光刻机的代名词。”

“半导体行业有一句话，我不知道大家有没有听过：艾司摩尔（ASML）的技术到哪里，全球半导体的制程就在哪里。”

“这可不是空穴来风，可以其之强大。”

“虽然我们可以不服，但人家就在那里！”

“如果我们华国想制造7nm及其以下的工艺的芯片，就必须引入EUV光刻机。”刘林话头一转：“但是，人家就是不卖给我们？”

“一台设备卖上亿，我们华国还要看人家脸色！”刘林的话变得有点沉重。

“而且更重要的是，我们给人家脸色，人家还不卖！”

刘林叹了口气，扫了眼台下，摇了摇头，又接着道：“虽然尼康和佳能也曾做过光刻机，但是近些年，尼康在ASML面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市场基本被ASML占据。”

“如果我们用数据来说话，ASML的EUVNXE3350B单价超过1亿美元，ArFImmersion售价大约在7000万美元左右，如此昂贵的价格，我们有钱还买不到。”

“所以我就不信邪，自己亲自设计了一台！”

“可能很多人都不知道光刻机工作原理！”

“不过没关系！”刘林说完，又接着道：“我给大家涨涨知识！”

“光刻机，主要分成：测量台、曝光台：就是是承载硅片，我们俗话说的圆晶的工作台。”

“激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一，我们华国就造不出来。”

“光束矫正器，能量控制器，光束形状设置，遮光器......”

“在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。”

“一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。”

“越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。”

“可能大家不是专业，不知道，光刻机的波长越短，可曝光的特征尺寸就越小，波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。”

“还有就是离子束比激动束，有着非常大的能量，能量越大，曝光时间就越短。”

“而我设计的光刻机，不管是在支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等，理论上都比ASML的EUVNXE3350B强！”

“他的可见g线：136nm，i线：65nm，深紫外光（DUV），KrF准分子离子束：48nm，ArF准分子离子束：23nm！”

“它可以加工2nm的精度！”

2nm的精度？

不会是乱报的吧？

怎么可能有这么高的精度？

真的假的？

刘林前面说的技术，可能自己不是专业听不明白，但是最后果的可以2nm的精度还是明白的！

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